Wago Engineering
半导体产业项目
半导体行业废水处理系统
水处理：守护最珍贵的资源
水处理的核心目标，是将来自河流、地下含水层或海洋等自然水源的水，通过先进工程技术进行净化和处理，使其达到不同用途所需的水质标准，例如安全饮用水、半导体制造所需的超纯水，以及农业灌溉用水等。
- 净化 — 去除有害病原体、重金属、有机污染物及其他杂质。
- 优化 — 调节水体的 pH 值、硬度、透明度及整体水质。
- 环境责任 — 确保用水安全，保护人体健康及生态环境。
水处理系统
现代水处理并非单一工序，而是由多个环节组成的系统化处理流程。典型完整系统主要包括以下阶段：
01
预处理系统：保护核心设备
在水进入精密膜系统及关键处理设备之前，必须先去除较大的杂质和悬浮物。
- 格栅/筛网 — 拦截树叶、塑料废弃物及其他较大的漂浮杂物。
- 原水泵 — 提供输送动力，将原水输送至后续处理单元。
- 多介质过滤器 — 利用石英砂、无烟煤等多层滤料去除悬浮颗粒和浊度。
- 活性炭过滤器 — 通过吸附作用去除有机物、余氯及异味。
- 软化器 — 采用阳离子交换树脂去除钙、镁离子，防止设备结垢。
- 精密/安全过滤器 — 采用 5 微米滤芯进行精细过滤，为核心处理系统提供保护。
02
核心处理：净化引擎
该阶段通过先进分离技术，从分子层面去除水中的溶解性污染物。
- 高压泵 — 作为系统核心动力源，为膜处理提供所需压力。
- 反渗透（RO） — 利用高压将水透过半透膜，有效去除盐分、胶体、细菌、病毒及有机污染物。
- 能量回收装置 — 回收浓水中的高压能量，显著降低系统能耗和运行成本。
- EDI（电去离子，Electrodeionization） — 结合电场与离子交换技术，连续生产超纯水，广泛应用于半导体制造领域。
03
深度处理与消毒系统：确保最终水质安全
在去除大部分污染物后，需要进一步保障水体的生物安全性和稳定性。
- UV 紫外线消毒 — 利用紫外线破坏微生物 DNA，有效灭活细菌和病毒。
- 臭氧发生器 — 通过臭氧强氧化作用去除细菌、病毒及残余色度和异味。
- 持续消毒系统 — 投加适量余氯或二氧化氯，在输配过程中持续保障水质安全。
- 末端精密过滤器 — 采用 0.22 或 0.45 微米过滤元件，形成最终无菌屏障。
04
辅助系统与公共配套
完整的水处理厂还需要多项辅助设施协同运行。
- 投加系统 — 用于投加阻垢剂、还原剂、酸碱调节剂等化学药剂，保障系统稳定运行。
- 水箱／储水池 — 用于调节水量和水质波动，实现各处理单元间的稳定衔接。
- 控制系统 — 采用 PLC 或 DCS 控制平台，实现全天候自动监测、数据管理及故障预警。
05
污泥处理系统：实现环保处置
在净化过程中产生的污泥及废弃物需要进行规范处理与资源化管理。
- 污泥浓缩与脱水 — 采用压滤机、离心机等设备去除污泥中的水分，形成便于运输和处置的泥饼，实现安全环保处理。
